Chemical Mechanical Planarization

Abrasivos de sol de sílica para planarização químico-mecânica

A planarização químico-mecânica (CMP, na sigla em inglês) remove o material da superfície de um wafer para obter uma base de alta qualidade para a próxima camada de um circuito ou como uma etapa final de polimento. Nossa última geração de abrasivos de sol de sílica para CMP é projetada para permitir seletividade direcionada, baixa taxa de defeitos e riscos, rápida taxa de remoção e alta estabilidade na formulação da lama. 

Oferecemos uma variedade de abrasivos de sílica coloidal para CMP para atender a diferentes necessidades de lama para diferentes tipos e camadas de chips. As partículas abrasivas têm uma distribuição de tamanho, dureza, morfologia e perfil de superfície que afetam diretamente as métricas críticas, incluindo taxa de remoção e defeitos de wafers.

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Produtos de sílica coloidal de alta pureza para CMP

  • Tamanho: projetado
  • Sólido: 30%
  • pH: 8,9 a 9,5
  • Potássio estabilizado

  • Tamanho (nm): 35
  • Área em m2/gm: 85
  • Porcentagem de sólidos: 30 
  • pH: 9 a 10 
  • Estabilização: K+

  • Tamanho (nm): projetado 
  • Área em m2/gm: 85 
  • Porcentagem de sólidos: 50 
  • pH: 9 a 10 
  • Estabilização: K+

  • Tamanho (nm): projetado 
  • Área em m2/gm: 50 
  • Porcentagem de sólidos: 50 
  • pH: 8,5

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Desenvolvimento personalizado de produtos abrasivos para CMP

Nossas equipes experientes e dedicadas de RD&E fornecem desenvolvimento personalizado de produtos de sol de sílica para oferecer soluções adaptadas às necessidades e processos específicos dos negócios. Projetamos produtos que abrangem uma ampla gama de:

  • Tamanhos da partícula
  • Distribuições de tamanhos de partículas
  • Cátions estabilizados
  • Concentração
  • pH
  • Tipos de pacote
  • Condições de temperatura
  • Classificações
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Qualidade e consistência de produtos de sílica coloidal

A Nalco Water se concentra na qualidade, consistência e confiabilidade em todas as suas soluções de sílica coloidal. Para garantir que nosso sol de sílica funcione corretamente em aplicações de CMP, buscamos os padrões IPC para orientar nossos testes de controle de qualidade.

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A Nalco Water é líder em sílica coloidal

  • Primeiro processo de fabricação patenteado de sílica coloidal em 1941
  • Uma das maiores fabricantes de sílica coloidal do mundo
  • Equipes de PD&E inovadoras para o desenvolvimento de produtos personalizados
  • Produtos projetados para eficiência, qualidade e controle da fabricação
  • Entre em contato com nossos especialistas em tecnologias coloidais

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Referências

  1. Os produtos foram feitos usando a abordagem de engenharia LMSII para remover metais; [Cu] e [Ni] menor que 20 ppb. Disponibilidade sujeita ao volume↵