A Nalco alinhou os seus recursos de produção de sílica coloidal para fornecer nanopartículas inovadoras de alta pureza e atender às necessidades do formulador de lama CMP (Chemical Mechanical Polishing).
A Nalco fabrica pastas abrasivas para polimento baseadas em sílica coloidal que são amplamente utilizadas para polir material de estoque, polir arestas e polir as etapas finais na produção de pastilhas de silício e outros semicondutores substratos para microchips. Essas pastas abrasivas também são usadas no acabamento preciso da superfície de componentes ópticos, cristais para cobertura de relógio e outros componentes de vidro.
Clientes interessados em nossas nanopartículas inovadoras podem contatar o Nalco Colloidal Technologies Group diretamente pelo e-mail CTGmarketing@nalco.com para obter assistência.
